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平板拋光機(jī)有哪些工作原理

文字:[大][中][小] 手機(jī)頁面二維碼 2022/10/19     瀏覽次數(shù):    

平板拋光機(jī)把拋光分為兩個(gè)階段。粗磨的目的是去除磨損損傷層,使其達(dá)到大拋光速度。由粗拋引起的表面損傷是次要考慮因素,但應(yīng)盡量小。第二個(gè)是完成(或后拋),目的是消除表面粗糙造成的損害,并盡量減少拋光損傷。

平板拋光機(jī)

平板拋光機(jī)

  拋光機(jī)拋光時(shí),試樣研磨面和拋光盤應(yīng)完全平行并均勻地壓在閥瓣上,防止樣品因壓力過大而飛出并產(chǎn)生新的磨損痕跡。同時(shí)還應(yīng)使樣品旋轉(zhuǎn),并沿車輪半徑方向來回移動(dòng),以避免在打磨拋光布過程中局部磨損過快,保持粉漿的加入,使拋光布保持一定的濕度。
  濕度過大,降低了拋光的磨損效果,使試樣中的硬相呈現(xiàn)鋼中的浮凸和非金屬夾雜物以及鑄鐵中的石墨的"拖尾"現(xiàn)象。濕度太小,因?yàn)槟Σ翢釙?huì)使樣品升溫,潤滑效果會(huì)降低,磨削表面會(huì)失去光澤,甚至?xí)霈F(xiàn)黑斑,而輕合金會(huì)拋出表面。
  為了實(shí)現(xiàn)粗加工的目的,平板拋光機(jī)需要的轉(zhuǎn)速較低,好不超過600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕不再因?yàn)樽冃螌討?yīng)去除。粗拋光后,磨削表面光滑,但表面粗糙。在顯微鏡下,有一個(gè)均勻的細(xì)磨痕,有待消除。
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